SEMI-halfgeleiderbuizen
Ultrahoogzuivere RVS buizen vervaardigd volgens SEMI-normen voor het leveren van ultrazuivere gassen en chemicaliën in halfgeleiderfabrieken.
Gespecificeerd om procesgas onverontreinigd te houden
SEMI-buizen zijn specifiek ontworpen om verontreiniging te voorkomen van procesgassen die worden gebruikt bij etsen, lithografie en andere kritische halfgeleiderprocessen. De geldende normen leggen zowel de toestand van de bevochtigde oppervlakken als de metallurgische reinheid van het materiaal zelf vast.
De primaire kwaliteit is 316L volgens SEMI F20, met EN 1.4432 en EN 1.4435 beschikbaar waar een hoger molybdeengehalte nodig is voor betere corrosieweerstand. Koolstof wordt op maximaal 0,03 % gehouden om carbideafscheiding te voorkomen, en zwavel tussen 0,005 % en 0,017 % voor de zweetbaarheid.
SEMI F20 definieert drie zuiverheidsklassen: General Purpose voor standaard halfgeleiderutilities, High Purity voor de meeste gas- en chemicaliëndistributie, en Ultra-High Purity voor geavanceerde chemicaliëndistributiesystemen.
Oppervlak en materiaal, beide geregeld
Beheersing van bevochtigde oppervlakken
SEMI F19 legt criteria voor oppervlakteafwerking vast voor buizen en fittingen uit de 300-serie in waferfab-procesleidingen.
Materiaalreinheid
SEMI F20 stelt metallurgische reinheid en samenstelling vast voor UHP-chemicaliëndistributie.
Oppervlakteverificatie
De methoden F60 XPS/ESCA, F72 AES en F73 SEM karakteriseren en inspecteren de afgewerkte boring.
Gegradeerde zuiverheid
Drie vastgelegde zuiverheidsniveaus laten de fab buis en taak afstemmen zonder over te specificeren.
| Norm | Titel | Doel |
|---|---|---|
| SEMI F19 | Toestand van bevochtigde oppervlakken | Criteria voor oppervlakteafwerking van buizen en fittingen uit de 300-serie in waferfab-procesleidingen |
| SEMI F20 | Specificatie voor RVS 316L | Metallurgische reinheid en samenstelling voor UHP-chemicaliëndistributiesystemen |
| SEMI F60 | Testmethode XPS / ESCA | Oppervlaktekarakterisering voor chroom-ijzerverhoudingen |
| SEMI F72 | Testmethode AES | Auger-elektronenspectroscopie voor oppervlakteanalyse |
| SEMI F73 | Testmethode SEM | Rasterelektronenmicroscopie voor oppervlakte-inspectie |
Waar SEMI-buizen worden toegepast
Wat wij nodig hebben voor een vaste prijs
Hoe meer hiervan wij vooraf hebben, hoe sneller de prijsopgave en hoe minder navraag later. Gedeeltelijke aanvragen zijn welkom — wij laten weten wat de specificatie verder nodig heeft.
Aanvraag versturenSEMI-halfgeleiderbuizen — veelgestelde vragen
Wat dekken SEMI F19 en F20?
F19 legt criteria voor oppervlakteafwerking vast voor bevochtigde oppervlakken van buizen en fittingen uit de 300-serie in waferfab-procesleidingen. F20 legt metallurgische reinheid en samenstelling vast voor UHP-chemicaliëndistributie.
Waarom is koolstof beperkt tot 0,03 procent?
Laag koolstof voorkomt carbideafscheiding en beschermt de corrosieweerstand in de warmte-invloedszone na het welden.
Welke zuiverheidsklassen zijn beschikbaar?
SEMI F20 definieert General Purpose voor standaardutilities, High Purity voor de meeste gas- en chemicaliëndistributie, en Ultra-High Purity voor geavanceerde chemicaliëndistributie.
Zijn er alternatieven met hoger molybdeengehalte?
Ja. EN 1.4432 en EN 1.4435 bieden een hoger molybdeengehalte voor betere corrosieweerstand waar de toepassing dat vraagt.
Vraag informatie aan over SEMI-halfgeleiderbuizen
Geef kwaliteit, uitwendige diameter, wand, lengte, norm en afwerking op voor een vaste prijsopgave.